测试与失效分析

Testing and Failure Analysis

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离子束切割抛光镀膜系统(CP)

设备型号:GATAN MODEL 685
针对各类储能业务需求,TIES力图发展成为布局全面,面向市场,集测试分析、失效分析、资质认证、技术开发、工程放大、智能制造、高价值信息服务、高端培训为一体的研发型企业。 联系我们

技术参数

.离子源:离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪,高性能无耗材,抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节,离子束能量100 eV 到 8.0 keV,离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节;

.真空系统:干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵,压力:5 x 10-6 torr 基本压力,8 x 10-5 torr 工作压力,真空规冷阴极型用于主样品室;固体型用于前级机械泵,样品空气锁Whisperlok专利技术,无需破坏主样品室真空即可装卸样品,样品交换时间< 1 min


应用范围

用于EBSD样品制备;截面样品制备;

金属材料(合金,镀层);

石油地质岩石矿物;光电材料;

化工高分子材料;新能源电池材料。


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